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Nota Técnica
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| Aparelhagem para Fotólise de Compostos Sensíveis a Oxigênio e Umidade e Lâmpada a Vapor de Mercúrio de Alta Pressão Aparelhagem para Fotólise de Compostos Sensíveis a Oxigênio e Umidade e Lâmpada a Vapor de Mercúrio de Alta Pressão |
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Marco-A. De Paoli e Carlos F. Rodrigues Conteúdo não disponível
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On-line version ISSN 1678-7064 Printed version ISSN 0100-4042
Qu�mica Nova
Publica��es da Sociedade Brasileira de Qu�mica
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